点击图片查看原图氟化钙晶体
闪烁晶体
氟化晶体
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CVD 硫@化锌Cleartran®
激光晶体
CVD硒化@锌
氟化钙晶体
用于UV/VIS/IR应用的光学材料
多年来，Hellma Materials CaF2 一直被用作半导体生产微光刻的光学关键材料。CaF2 被确立为投影和照明光学中准分子激光光学器件的行业标准材料。CaF2 独特的光学特性使各种高级应用成为可能。
应用
由于其卓越的光学质量和在紫外、可见分光光度计和红外光谱范围内的出色透射率，Hellma Materials CaF2 可用于多种应用：
红外光学器件
用于天文仪器的光学元件
天基光学器件
显微镜光学元件
光谱光学
紫外光学
激光窗口
准分子激光光学器件
显微光刻光学器件
优势
Hellma Materials 的 Lithotec® CaF2 具有独特的光学特性：
从深紫外到红外的高宽带透射率（130nm 至 8μm）
低折射率 （nd = 1.43384）
低光谱色散 （vd = 95.23）
准分子激光光学器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性
合格的高能粒子和辐射耐受性
直径可达 420mm